ข้อกำหนดช่วง: (10-20) mm x (200-1450) mm x น้อยกว่าหรือเท่ากับ 3000 มม.
ข้อมูลจำเพาะของผลิตภัณฑ์ที่ให้มา: 9.5 มม. x 160 มม. x 925 มม.
15 มม. x 133 มม. x 778 มม.
19 มม. x 200 มม. x 2700 มม.
10 มม. × 885 มม. × 960 มม.
14 มม. × 1400 มม. × 1700 มม.
16 มม. × 1431 มม. × 1650 มม.
ข้อกำหนดความบริสุทธิ์: 99.95%; 99.98%
ความหนาแน่น: มากกว่าหรือเท่ากับ 10.10g/cm3
โครงสร้าง: ขนาดเกรนเฉลี่ยน้อยกว่า 150 ไมครอนวัสดุเป้าหมายทั่วไปและโครงสร้างพื้นผิว
ช่วงความแข็งเฉลี่ย: HV {{0}} การตรวจสอบอัลตราโซนิก: ข้อบกพร่องที่เทียบเท่าสูงสุดไม่เกิน 0.5 มม.;

01
บริการที่กำหนดเอง
จัดหาผลิตภัณฑ์และบริการที่กำหนดเองสำหรับความต้องการที่แตกต่างกัน วัสดุเป้าหมายแทนทาลัมที่มีความต้านทานอุณหภูมิสูงและความแข็งแรงสูงได้รับการพัฒนาสำหรับสนามบินและอวกาศ
02
นวัตกรรมเทคโนโลยี
นาโนเทคโนโลยีขั้นสูงใช้เพื่อปรับปรุงการนำไฟฟ้าและความต้านทานการกัดกร่อนของเป้าหมายแทนทาลัม
03
เทคโนโลยีการตัดเฉือนที่แม่นยำ
การตัดเฉือน CNC ขั้นสูงการตัดด้วยเลเซอร์ ความแม่นยำเพิ่มขึ้นเป็น± 0. 02mm
04
การรักษาพื้นผิว
การชุบอะโนไดซ์และอิเล็กโทรไลซ์ช่วยเพิ่มความต้านทานการสึกหรอ 25% และความต้านทานการกัดกร่อน 30% และยืดอายุการใช้งาน 20%
ในฐานะผู้ผลิตวัสดุเป้าหมายไทเทเนียมชั้นนำขอบการแข่งขันของเราเกิดจากการควบคุมวัตถุดิบอย่างพิถีพิถันและกระบวนการผลิตที่เข้มงวดเพื่อให้มั่นใจถึงคุณภาพและประสิทธิภาพที่เหนือกว่าซึ่งเป็นคู่แข่ง
1. การจัดหาวัตถุดิบที่ไม่มีใครเทียบได้
เราจัดหาวัตถุดิบไทเทเนียมจากเหมืองที่ได้รับการรับรองด้วยประวัติที่พิสูจน์แล้วว่าผลิตแท่งความบริสุทธิ์สูง วัสดุที่เข้ามาของเราได้รับการตรวจสอบหลายขั้นตอนอย่างเข้มงวด ตัวอย่างเช่นเราใช้ Spectroscopy การปล่อยแสงพลาสมาคู่แบบเหนี่ยวนำ (ICP - OES) เพื่อวิเคราะห์องค์ประกอบทางเคมีเพื่อให้มั่นใจว่าความบริสุทธิ์ของไทเทเนียมเกิน 99.95% การควบคุมสิ่งสกปรกอย่างพิถีพิถันเช่นออกซิเจน (เก็บไว้ต่ำกว่า 150 ppm) และเหล็ก (น้อยกว่า 50 ppm) ลดข้อบกพร่องในระหว่างการสปัตเตอร์ลดการปนเปื้อนของฟิล์มและปรับปรุงประสิทธิภาพการสะสมได้มากถึง 20% เมื่อเทียบกับมาตรฐานอุตสาหกรรม
2. ขั้นสูงและความแม่นยำ - การผลิตที่ขับเคลื่อน
กระบวนการปลอมแปลงของเราใช้เทคโนโลยีการปลอมแบบอุณหภูมิความร้อนซึ่งรักษาอุณหภูมิคงที่ในระหว่างการสร้าง สิ่งนี้ส่งผลให้โครงสร้างเกรนสม่ำเสมอมากขึ้นโดยมีขนาดเกรนเฉลี่ย 15 - 25 ไมโครเมตร เมื่อเปรียบเทียบกับการปลอมแบบดั้งเดิมผลิตภัณฑ์ของเราแสดงความหนาแน่นของความหนาแน่นที่ดีขึ้น 30% ถึง 99.8% ของความหนาแน่นทางทฤษฎี ความสม่ำเสมอนี้จะช่วยลดการเกิดขึ้นได้อย่างมีนัยสำคัญในระหว่างการสปัตเตอร์ขยายอายุการใช้งานเป้าหมาย 25% และปรับปรุงความหนาของฟิล์ม
ในระหว่างการตัดเฉือนเราใช้ศูนย์เครื่องจักรกลห้าแกน CNC ที่มีความแม่นยำในการวางตำแหน่ง± 0. 0 0 2 มม. การตัดเฉือนที่มีความแม่นยำสูงนี้ช่วยให้มั่นใจได้ถึงความเรียบภายใน 0.005 มม./มม. ลดความขรุขระของพื้นผิว (RA <0.2 μm) ในแอพพลิเคชั่นเซมิคอนดักเตอร์ความแม่นยำนี้ช่วยให้การสะสมฟิล์มบางที่แม่นยำยิ่งขึ้นลดอัตราการปฏิเสธผลิตภัณฑ์ 15%
3. การประกันคุณภาพอย่างเข้มงวด
แต่ละเป้าหมายไทเทเนียมจะผ่าน 1 0 0% การทดสอบการทำลายล้างโดยใช้การทดสอบอัลตราโซนิก (UT) ด้วยความถี่ 5 MHz สิ่งนี้ตรวจพบแม้กระทั่งข้อบกพร่องภายในที่น้อยที่สุดที่มีขนาดเล็กถึง 0.1 มม. ²ทำให้มั่นใจได้ถึงความน่าเชื่อถือของผลิตภัณฑ์ของเรา ห้องปฏิบัติการควบคุมคุณภาพบ้านของเรายังดำเนินการทดสอบประสิทธิภาพสปัตเตอร์จำลองสภาพการใช้งานจริง - โลก ระบอบการทดสอบที่ครอบคลุมนี้รับประกันได้ว่าเป้าหมายของเราเป็นไปตามความต้องการของลูกค้าที่เข้มงวดที่สุดทำให้คุณได้เปรียบในการแข่งขันในตลาดของคุณ

เลือกวัสดุเป้าหมายไทเทเนียมของเราเพื่อคุณภาพที่สอดคล้องประสิทธิภาพที่เพิ่มขึ้นและค่าใช้จ่าย - โซลูชั่นที่มีประสิทธิภาพ ติดต่อเราวันนี้เพื่อสำรวจว่าเราจะตอบสนองความต้องการเฉพาะของคุณได้อย่างไร
คุณอาจพบสิ่งนี้ที่น่าสนใจ
ป้ายกำกับยอดนิยม: Tantalum เป้าหมายผู้ผลิตเป้าหมาย Tantalum China, ซัพพลายเออร์, โรงงาน














